Ethernet/IP integra il layer fisico Ethernet-APL per l’automazione di processo

Dalla rivista:
Fieldbus & Networks

 

ODVA, l’organizzazione che promuove e sviluppa gli standard internazionali basati su CIP (Common Industrial Protocol), fra cui EtherNet/IP e DeviceNet, ha annunciato ieri in conferenza stampa che la specifica Ethernet/IP verrà ulteriormente sviluppata per consentire alle reti Ethernet/IP di supportare il layer fisico Ethernet-APL per l’automazione di processo. In questo modo, i fornitori in possesso della licenza per l’impiego della tecnologia Ethernet/IP possono immediatamente iniziare a sviluppare componenti Ethernet/IP con Ethernet-APL, compresi controllori, switch di potenza e di campo e strumentazione.

Ethernet-APL è la nuova estensione intrinsecamente sicura, a due fili, di 10Base-T1L (secondo IEEE 802.3cg-2019) Single Pair Ethernet, conforme ai requisiti dell’industria di processo. Fra i vantaggi dati da Ethernet-APL figurano: velocità di comunicazione che può arrivare a 10 Mbps, protezione per aree critiche, possibilità di alimentazione della strumentazione di campo e lunghezza dei cavi che può arrivare fino a 1.000 m (secondo IEC 61158-2). I dispositivi Ethernet-APL sono conformi a IEC TS 60079-47 (2-Wire Intrinsically Safe Ethernet), in modo da garantire protezione ignifuga ‘intrinsecamente sicura’. Il layer fisico Ethernet-APL soddisfa la sfida di disporre di una rete Ethernet veloce con elevata larghezza di banda a livello di campo per gli impianti di processo, da impiegare anche in aree critiche, a rischio di esplosione, ed estese geograficamente.

“L’annuncio odierno è il risultato di molti anni di lavoro e collaborazione per offrire Ethernet-APL al mondo dell’industria. ODVA è felice di continuare ad ampliare le capacità di Ethernet/IP per l’automazione di processo con l’inclusione di Ethernet-APL nella sua specifica Ethernet/IP” ha affermato Al Beydoun, presidente e direttore esecutivo di ODVA. “Con il contributo di Ethernet-APL, Ethernet/IP sarà in grado di espandere il suo sistema di controllo e commissioning preciso ed efficiente basato su Ethernet al campo della strumentazione. L’uso completo di Ethernet/IP nelle installazioni di processo consentirà una connessione simultanea e senza soluzione di continuità dai dispositivi di campo ai controllori, fino ad applicazioni di Industrial IoT, così come all’edge e al cloud per l’analisi prognostica”.

L’aggiunta del supporto del layer fisico Ethernet-APL è un altro passo chiave nel processo di adattamento che Ethernet/IP sta intraprendendo per soddisfare le necessità delle industrie di processo. Ulteriori migliorie già apportate a Ethernet/IP, di cui beneficiano le applicazioni di processo, sono costituite dall’integrazione di Namur NE 107 per la diagnostica, di Hart, di IO-Link e dal supporto della prossima generazione di ‘device description file’ digitali, inclusi FDT e FDI, L’inclusione del layer fisico Ethernet-APL permetterà agli utenti finali di beneficiare di tutti i vantaggi possibili offerti da Ethernet/IP negli impianti di processo, compresi hardware di controllo industriale commerciale, piattaforma object-oriented e compatibilità con protocolli Internet standard quali TCP/IP, HTTP, FTP, SNMP e DHCP.
Con il supporto alla sicurezza funzionale di CIP Safety, la difesa a livello di dispositivo di CIP Security, la sincronizzazione temporale di CIP Sync e la ridondanza fault tolerant dei protocolli PRP (Parallel Redundancy Protocol) e DLR (Device Level Ring), le installazione di automazione di processo con Ethernet/IP possono avvantaggiarsi di funzionalità quali il monitoraggio dello status di reti e dispositivi, la sicurezza integrata e la configurazione da remoto dei dispositivi.

I primi controllori, switch di potenza e di campo e strumentazione con Ethernet-APL che supporta Ethernet/IP si pensa saranno disponibili sul mercato nel 2022, una volta completato il processo di certificazione di conformità.

È possibile scaricare l’ultima versione della specifica Ethernet/IP che include EtherNet/IP for Ethernet-APL sul sito di ODVA.

Ilaria De Poli @depoli_ilaria

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