Il primo Chip realizzato con la litografia ad immersione

Pubblicato il 3 dicembre 2004

Ibm ha dichiarato di aver prodotto dei processori basati sulla sua architettura Power, realizzati con tecniche litografiche ad immersione. Nella litografia ad immersione lo spazio tra le lenti di proiezione ed il wafer semiconduttore è riempito da un liquido. Questo tipo di tecnologia permette di raggiungere una migliore risoluzione e di migliorare le aperture numeriche (NA) del sistema ottico nei processi di proiezione litografica standard.

La litografia ad immersione potrebbe potenzialmente estendere i processi da 193 nm fino a raggiungere i 45 nm. Inoltre si potrebbe migliorare ulteriormente le capacità di questa tecnologia utilizzando luce ultravioletta, in questo caso una lunghezza d’onda minore consentirebbe tracce più piccole.

I processi litografici ad immersione sono oggetto di ricerche congiunte, da parte di Cnse (The College for Nanoscale Science and Engineering), Asml, Tel (Tokyo Electron Ltd) e naturalmente Ibm. L’impegno è teso a dimostrare ed ottimizzare i processi ed i materiali nell’ambito dell’utilizzo su wafer da 300 mm.